TSD(Threading Screw Dislocation,螺位错)缺陷和 BPD(Basal Plane Dislocation,基平面位错)一直是影响碳化硅衬底性能的关键因素。思莱克此次推出的 8 英寸低电阻碳化硅衬底,拥有零 TSD 缺陷和极低的 BPD 密度(53 个 /cm2)的卓越晶质 ,使得这款碳化硅衬底在性能上远超同类产品。
低阻高效
8英寸低电阻碳化硅衬底电阻仅8mΩ・cm。新能源汽车中用于车载逆变器,大幅降损、提升续航。光伏发电里用于光伏逆变器,降损提效,高温性能优,提升系统可靠性。
卓越晶质
该衬底晶质佳,零TSD缺陷、BPD密度极低。航空航天等领域可保设备极端环境稳定运行。电力电子领域能降反向漏电流、提开关速度效率,助力智能电网,延长器件寿命、降维护成本。
8英寸低阻碳化硅衬底具有导通损耗出色、温度可靠、开关响应成本实惠等优势。
损耗效率 | 温度可靠 | 开关响应 | 成本升级 |
导通损耗出色,工业电源领域可大幅降耗省电费,数据中心能提升转换效率、节省能耗。 | 使运行温度显著下降,提升工业电机可靠性、延长寿命,增强轨道交通设备可靠性。 | 优化开关性能,手机快充芯片缩短充电时间、降低发热,5G基站功率器件降低能耗、提升通信质量。 | 整体成本有竞争力,技术创新控成本,高良率和易加工性减少损耗,为产品升级留空间 。 |
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