等静压石墨是上世纪60年代发展起来的一种新型石墨材料。耐热性好，在惰性气氛下随着温度的升高其机械强度不但不降低反而升高。在2500℃左右时达到最高值。与普通石墨相比结构精密、均匀性好、热膨胀系数低，具有优异的抗热震性、耐化学腐蚀性、导热性等性能。在冶金、化学、电气、航空宇宙及碳化硅半导体工业等领域广泛应用。
纯度高 | 强度高 | 热膨胀系数低 | 耐火性好 | 结构精密 |
纯度最高达 99.99%，可生产光谱纯产品。半导体制造中，为碳化硅片熔炼提供无杂质环境，保障芯片性能。 | 抗压、抗折强度出色，抗摔性能良好。抗压强度比普通坩埚高数倍，延长使用寿命，降低成本。 | 热膨胀系数低，加热时尺寸形状稳定，防止开裂漏液。单晶生长过程中，确保快速升降温时结晶稳定，保证产品质量。 | 最高耐火温度达 2500℃，强于市场大多数材料。高温工业加工邻域为提供稳定条件。 | 内部紧密，孔隙率低，杜绝渗液。阻止金属液渗透，抵御腐蚀性液体侵蚀，保障坩埚寿命与金属液质量。且耐磨耐冲刷，减少维护更换成本。 |
等静压成型
等静压石墨坩埚采用冷等静压成型法制造，将高纯石墨粉末或石墨与其他材料的混合物放入弹性模具中，在高压容器中通过液体介质均匀施加压力，使粉末在各个方向上受到相同的压力而成型。这种工艺能使坩埚内部组织均匀、无缺陷，密度和强度高，各向同性好。
烧结处理
成型后的坯体经过高温烧结，进一步提高其密度、强度和耐高温性能，使其具备良好的物理和化学稳定性。
热场应用
在碳化硅衬底生产过程中，等静压石墨坩埚是单晶生长炉热场系统的关键。单晶生长炉系统精密复杂，主炉室是核心，热场系统安装于此，主要由加热器、保温桶、石墨坩埚等构成，除石英坩埚和保温毡外，多采用等静压石墨。等静压石墨坩埚支撑石英坩埚并传递热量，维持硅料熔化状态。
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