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什么是低阻碳化硅衬底


  • 时间:2025-09-22
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  • 什么是低阻碳化硅衬底
    • 总结

    低阻碳化硅衬底(8mΩ・cm)具备高效降耗、优异散热特性,提升新能源车、光伏逆变器效率。思莱克工业科技提供零TSD缺陷、低BPD的高品质衬底,助力高性能芯片制造。

    信息介绍 特点优势 行业应用 思莱克低阻碳化硅


    低阻碳化硅衬底的信息介绍

    低阻碳化硅衬底是指电阻率显著低于常规碳化硅衬底的材料。电阻率越低,导电能力越强,电流传输效率越高,目前主流导电型碳化硅衬底的电阻率普遍处于15—30mΩ・cm之间,而低阻碳化硅衬底已实现8mΩ・cm。

    低阻碳化硅衬底的特点优势

    低阻碳化硅衬底具有高效降耗、散热优异、 开关响应、经济实惠等优势。

    高效降耗

    散热优异

    开关响应

    经济实惠

    有效降低电流传导能量损失,提升系统效率,助力节能减碳。

    高热导率有助于器件散热,降低工作温度,提升运行稳定性与寿命,并为提高功率密度创造条件。

    具备更快开关速度和更低开关损耗,提升器件性能。

    随着工艺成熟和产能扩大,综合成本持续降低,助力下游产品在控制成本的同时实现性能升级。


    低阻碳化硅衬底的应用

    低阻碳化硅衬底可提升新能源汽车电驱逆变器中的系统效率5–10%,有效延长续航里程,其在光伏逆变器中能够显著提高电能转换效率,增加发电输出。该材料也适用于5G通信基站对性能要求较高的场景,同时提升自动化设备的系统驱动性能。此外,低阻碳化硅衬底还可优化开关性能,全面提高能源利用效率。

    思莱克低阻碳化硅衬底

    思莱克工业科技专注于碳化硅衬底的研发与规模化生产。依托晶体生长、纯度控制与缺陷抑制等核心技术,公司成功推出电阻率低至 8mΩ・cm 的高品质衬底,且实现 “零 TSD 缺陷” 与 “极低 BPD 密度”,为高性能芯片制造奠定可靠基础。目前,其产品已广泛应用于新能源汽车、光伏发电、工业控制等领域,并与行业头部企业达成合作,市场占有率快速提升,正逐步成长为全球碳化硅材料领域的重要供应商。

    低阻碳化硅衬底参数.webp

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