氮化硅陶瓷材料

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思莱克氮化硅陶瓷材料具有密度低、硬度高、耐磨性强、抗弯强度优异的特点。其热学性能突出，耐高温、热膨胀系数低、抗热震性佳，同时化学稳定性卓越，耐腐蚀、抗氧化。在碳化硅衬底工艺中应用广泛。

信息介绍特点优势工艺应用案例展示

氮化硅陶瓷材料的信息介绍

氮化硅陶瓷（Si₃N₄）是一种高性能的先进陶瓷材料，在碳化硅（SiC）衬底工艺中扮演着重要角色，主要利用其优异的物理性质、化学稳定性和热学特性，来提升SiC衬底的加工质量、器件性能及工艺效率。

物理性质	热学性能	化学稳定性
密度低于大多数金属。硬度高，莫氏硬度接近金刚石，耐磨性极佳。抗弯强度高韧性优于普通陶瓷。	耐高温，长期使用温度达1200-1400°C，短期可达1800°C。低热膨胀系数，抗热震性能优异。	耐腐蚀抗酸、碱、熔融金属侵蚀，抗氧化，表面形成SiO₂保护层。

切割减薄	研磨抛光	外延生长	封装与热管理
碳化硅晶锭切割时氮化硅薄膜作为保护层减少微裂纹，减薄时作为临时键合层（耐>800°C）防止衬底翘曲/破裂。	因其高耐磨性，可用于制造抛光垫或作为磨料的载体，提升SiC衬底的表面平整度（Ra <0.5 nm）。	氮化硅薄膜可作为选择性生长掩膜，利用其化学惰性抑制非目标区域的外延沉积。用于外延反应腔内的隔离部件，可减少金属污染。	作为碳化硅器件的封装基板，提升散热效率与寿命。用于多层封装结构中，提供电绝缘且耐高压击穿（>10 kV/mm）。

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